本文標(biāo)題:對于石蠟塊的修整條件要求
信息分類:站內(nèi)新聞 新聞來源：未知 發(fā)布時間：2015-7-24 13:24:42
對于石蠟塊的修整條件要求
修整石蠟塊的主要要求是根據(jù)修理的目的進(jìn)行決定
的，而對于石蠟塊的一個整體來說，它的修整的目
的在于對石蠟塊切片后不發(fā)生彎曲現(xiàn)象。
同時還需要避免切成石蠟塊的石蠟片在一條直線上
，還可以使切成的樣品標(biāo)本結(jié)構(gòu)組織的距離相接近
，可以更加方便的對其進(jìn)行顯微觀察檢測。
因此為了對石蠟塊的修整目的就需要在修整時，將
石蠟塊上下兩個表面修整成一個平行的表面，這樣
也可以方便切割。
如果石蠟塊上下修整不平行，則在切割時就會發(fā)生
彎曲的現(xiàn)象，切片也不容易，而殘留在石蠟塊表面
的蠟太多會影響顯微觀察。
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本文出自上海永亨光學(xué)儀器有限公司，本文地址：http://m.vcalm.cn/xinwen/1719.html
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