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本文標(biāo)題:離子減薄參數(shù)進(jìn)行減薄的過(guò)程

信息分類:站內(nèi)新聞 新聞來(lái)源:未知 發(fā)布時(shí)間:2014-10-25 16:52:22

離子減薄參數(shù)進(jìn)行減薄的過(guò)程

透射電子顯微鏡用磨坑儀在圓片中央部位磨成一個(gè)凹坑,凹坑深度約
50-70為止,凹坑目的主要是為了減少后序離子減薄過(guò)程時(shí)間,以提
高最終減薄效率。

透射電子顯微鏡將潔凈的已凹坑的3厘米的圓片小心放入離子減薄儀
中,根據(jù)試樣材料的特性檢測(cè)。

透射電子顯微鏡選擇合適的離子減薄參數(shù)進(jìn)行減薄,通常一般陶瓷樣
品離子減薄時(shí)間需整個(gè)過(guò)程約5天。

顯微鏡如粉末是黑色,則當(dāng)微柵網(wǎng)周?chē)陌咨珵V紙表面變得
微黑,此時(shí)便適中。

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  1. 沒(méi)有資料